◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇
■■■／■■■／■■■／■■■／
■／／／■／■／／■／／■／／／ 産 学 連 携 セ ン タ ー Ｎ Ｅ Ｗ Ｓ
■■■／■■■／／■／／■■■／
■／／／■／■／／■／／／／■／ ■vol. 268 2010.04.28
■／／／■／■／■■■／■■■／
◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
編集・発行／（財）北九州産業学術推進機構〔通称：FAIS〕産学連携センター
【担当】安川、佐藤
URL：
http://www.ksrp.or.jp/
E-mail：
http://fais.ksrp.or.jp/MF3/?id=sangaku
※本信は、北九州学術研究都市における産学連携に関する情報を中心に
当財団主催のイベントに参加された方々やスタッフが名刺交換させて
いただいた皆さまを対象にお届けしております。
※配信停止・配信先変更をご希望の方は、お手数ですがご連絡下さい。
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
◆◆目次◆◆
────────────────────────────────────
【０１】「第９２回産学交流サロン（ひびきのサロン）」開催のご案内
【０２】「５月度ひびきの半導体アカデミー追加講座」のご案内
────────────────────────────────────
【０１】「第９２回産学交流サロン（ひびきのサロン）
環境負荷の少ない低炭素化社会を目指すためのＩＴＳ技術
〜第１弾．自律走行・隊列走行における先端技術〜」開催のご案内
第９２回産学交流サロンのご案内です。
春恒例のひびきのサロン「カーエレクトロニクス特集」です。
今回は、低炭素化社会を目指すためのＩＴＳ技術をテーマに、第１弾として、
自動車の自律走行・隊列走行の最先端技術領域におきまして、第一線でご活躍
されている研究者の方々に解説して頂きます。
関係する企業経営者及び技術者・研究者多数のご参加をお待ち致しております。
期 日：平成２２年６月４日（金）１３：３０〜１９：００
主 催：財団法人北九州産業学術推進機構
会 場：北九州学術研究都市（北九州市若松区ひびきの）
参加費：無料（交流会は1,000円必要 ただし「ひびきの会」会員は無料）
内 容：
○研究テーマ発表
「”エネルギーＩＴＳ”−自動運転・隊列走行が未来を拓く」
／NEDO 新エネルギー・産業技術総合開発機構
「エネルギーＩＴＳ推進事業」技術委員会委員長 石 太郎氏
「エネルギーＩＴＳにおける自動運転隊列走行技術の開発状況」
／ＪＡＲＩ 日本自動車研究所 ITSセンター研究主幹 青木 啓二氏
「自律走行・隊列走行の研究課題とその取組み」
／早稲田大学大学院情報生産システム研究科 教授 大貝 晴俊氏
「広域走行制御による最適走行技術の研究開発への取組み」
／早稲田大学情報生産システム研究センター
平澤研究室・客員研究員 嶋田 香氏
「車載カメラ映像の悪天候下の画質改善に関する研究開発」
／早稲田大学大学院情報生産システム研究科 教授 鎌田 清一郎氏
○交流会＆フリーディスカッション（17:30〜19:00）
※内容詳細はこちら↓
http://www.kq-ec.net/iac/salon/index.html?eid=00050
【お問い合わせ】
（財）北九州産業学術推進機構 産学連携センター
TEL：093-695-3006 FAX：093-695-3018
────────────────────────────────────
【０２】「５月度ひびきの半導体アカデミー追加講座」のご案内
ひびきの半導体アカデミーは、半導体や集積回路、電子回路基板等の設計〜応用
に関連する実戦的技術者を育成することを目的として、様々な講座やセミナーを開
催しています。
（本講座は2006年度より電気学会九州支部協賛で開催しております）
《今回は2010年5月24〜25日実施の開発実習講座のご案内です》
◆ 開催講座、講師、日程、概要 ◆
「集積回路製造プロセス実習」
ファジイシステム研究所 安藤 秀幸 氏
５／２４（月）〜２５日（火） ９：００ 〜 １６：４０
＊インプラ工程、エッチング工程などの基本的な製造プロセス工程を体験学習
にて習得する。
＊講座スケジュール＊
☆１日目☆
09：00〜12：00講座説明，安全講習，半導体の基礎，ウェハプロセスまでの工程，
CMOSプロセスフロー
13：00〜14：45ウェハ洗浄技術，薄膜形成技術（熱酸化，プラズマCVD），膜厚測定
15：15〜16：40フォトリソグラフィ技術（装置説明，レジストコート，露光，現像）
☆２日目☆
09：00〜09：30講座説明
09：30〜12：00フォトリソグラフィ技術（アライメント露光，アライメント補正）
13：00〜14：30エッチング技術?（ウェットエッチング），エッチング技術?
（ドライエッチング），顕微鏡観察
15：00〜16：10不純物導入技術（装置説明，イオン注入作業）
16：15〜16：40確認テスト
◆ 会 場 ◆
北九州学術研究都市内 共同研究開発センター（２号館）
http://www.ksrp.or.jp/access/floor02.html
◆ 参 加 費 (税込） ◆
一 般 者 ：受講料 2,0000円 + テキスト代 2,000円 ＝ 計 22,000円
学生院生 ：受講料 5,000円 + テキスト代 2,000円 ＝ 計 7,000円
◆ 申込み方法 ◆
下記URLよりお申込みください。
追って受付完了メール、及び受講料請求書をお送りいたします。
http://www.ksrp.or.jp/fais/sec/form/jyukouform.html
【お問合せ先】
（財）北九州産業学術推進機構（略称：FAIS）
半導体技術センター（略称：SEC） 担当：野依、白木、渡辺
tel ： 093-695-3007 fax ： 093-695-3667