目に見えない微細構造物で未来を拓く

● 研究テーマ

• ❖電子、機械、生物、医療などの各種分野を融合した高度システム化デバイス作製の研究

● 分野

マイクロ・ナノデバイス（2103）：真空マイクロ・ナノ素子作製技術および応用に関する研究
電子デバイス・電子機器（5103）：インクジェット技術に関する研究、太陽電池に関する研究、パワーデバイスに関する研究
ナノ領域からミリ領域における加工に関する研究

● キーワード

微細加工技術、マイクロマシン、インクジェット技術、MEMS、高度システム化デバイス（※MEMS･･･Micro Electro Mechanical Systems微小電気機械システム）
（その他：3次元加工、半導体素子・プロセス技術、パワーデバイス、太陽電池、ナノインプリント技術、真空マイクロ/ナノ素子、電界電子放出型ディスプレイ、バイオ素子、イオン源、液体プロセス）

● 実施中の研究概要

今日の高度技術化社会は、電子デバイス・ソフトウェア技術に代表されるIT技術に牽引されており、これらの産物であるコンピュータやインターネットならびに携帯電話は、我々の生活に必要不可欠となっています。今後のさらなる高度技術化社会の進展には、これらIT技術のみでなく、ディスプレイ、マイクロマシン、MEMSおよびバイオ素子と言った他分野との融合を図った高度システム化デバイスが必要不可欠です。
本研究では、微細加工、適材適所の加工技術をキーワードとし、電子、機械、生物、医療などの各種分野を融合した高度システム化デバイス作製の研究を行っています。これらのデバイス作製のために、半導体微細加工技術のみならず、インクジェット技術およびナノインプリント技術と言った新たな微細加工技術や3次元加工技術を併用すると共に、「加工のための道具」である新技術の開発も並行して行っています。

● 今後進めたい研究

今後は、従来の固体材料にとどまらず液状材料をも視野に入れた加工技術の開発を試みます。これらの技術を集積することで、高度システム化デバイスの構築を目標とします。さらに、現在の平面デバイス（例えば、太陽電池、パワーデバイスなど）を3次元化することで飛躍的な性能向上が見込まれます。今後は、これらの分野に3次元微細加工技術適用を試みます。

● 特徴ある実験機器、設備

各種微細加工のための下記のような施設が学内・マイクロ化総合技術センターに設置されています。　
・クリーンルーム全体構成･･･（写真①）
・フォトリソグラフィ室･･･（写真②）
・プロセス室（成膜）･･･（写真③）
・プロセス室（加工）･･･（写真④）
・設計CADシステム　・評価解析設備　・試作例

● 知的財産権（技術シーズ）

【特許】
①『静電誘引式液滴ノズルおよびその製造方法』、石田雄二、吐合一徳、松崎一成、馬場昭好、浅野種正、日本、2004-097106（2004）、特許第3680855号（2005）
②『インクジェットヘッド』、松崎一成、石田雄二、吐合一徳、浅野種正、馬場昭好、日本、2004-097105（2004）、特許第3687074号（2005）･････（液滴径１ミクロン程度の液滴を安定して吐出する技術。）
③『微細パターンの描画装置およびノズルヘッドの製造方法』、石田 雄二、吐合 一徳、松崎 一成、浅野 種正、馬場 昭好、日本（2005）、特許第3747414号（2005）･････（直線のみならず曲線を交えた複雑なパターン形状においても、液滴の塗布間隔を均一にして描画する微細パターンの描画方法およびその装置。）
④『測定対象物の中心位置検出方法』、松崎 一成、浅野 種正、馬場 昭好、石田 雄二、吐合 一徳、日本（2004）、特許第3680861号（2005）

● 過去の共同研究、受託研究、産業界への技術移転などの実績

現在、半導体の微細加工技術のみならず、インクジェット技術およびナノインプリント技術と言った新たな微細加工技術および3次元加工技術を併用することで、ディスプレイ素子、MEMS素子、バイオ素子および半導体素子の融合を図る研究を行っています。さらには、いわば「加工のための道具」である、電子源、イオン源などの微細加工技術の開発も並行して行っています。微細加工、適材適所の加工技術をキーワードとし、各種分野間の融合を目指しています。

● 研究室ホームページ

• http://www.cms.kyutech.ac.jp/make01/index.html