ナノテクノロジーで人類の未来を開こう
MEMS・NEMS、マイクロメカニクス、カーボンナノチューブ
フラーレン、ナノマテリアル、超精密加工、MEMS
"ナノ・マイクロエンジニアリングに関する研究
1.分子レベルを目指した超精密加工に関する研究
①フラーレン分子(直径1/1000000000=1nm)の性質に着眼し,新規加工
技術を探索する.
②ナノ分子の動きを自由自在に制御するための手法を探索(電場,光など)
2.光を用いてナノ領域における物質やその性質,形状の測定に関する研究
①ナノスケールの微少空間を解析する手法はこれまで未確立である.本研究
室では,微細加工技術と物性技術を融合し,新規にナノ解析技術の確立を目指す.
②加工メカニズムの解析.長年にわたり,世界中の研究者が加工メカニズム
に関する研究をおこなっているが,未だ未知の領域である.本研究室ではナ
ノ領域での解析技術を確立することで,加工メカニズムの解明を目指す.
3.精密加工技術を利用したマイクロ素子の開発
"
1. 超精密加工技術の高精度化により、携帯電話などに使用されている最新の電子機器の性能向上に貢 献したいと思います。(半導体素子の配線形成技術や3次元化など)
2. 液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどの画質向上
3.長期目標としては超精密加工技術を利用した新規エネルギー発電素子への応用を目指します。ここでは、機械分野と化学分野の融合化を図り,太陽エネルギーの取り込み技術,貯蔵技術,輸送技術を構築することで、世界が直面している環境問題の解決を目指していきたいと思います。
原子間力顕微鏡, 小型研磨装置, 真空チャンバー、 小型電気炉
国内登録特許
・新規なフラーレン化合物及びその製造方法と使用方法
No.563206 2004.6.11
・不揮発性メモリを用いた光-電気変換装置、およびこれを利用した画像装置
No.3668651 2005.4.15
・研磨装置及び研磨方法
No.3453352 2003.7.18
・膜厚測定装置及び基板研磨装置
No3514743 2004.1.23
・CMP装置、研磨パッドオヨ費研磨方法
No3627182 2004.12.17
海外登録特許
・Light-electricity converting apparatus using non-volatile memory and image apparatus using the same
US Patent No.6816198 2004.11.9
・CMP polish pad and CMP processing apparatus using the same
US Patent No.6332832 2000.4.11
その他に国内公開特許34件 出願特許15件